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RIE-200H 平板式反应离子刻蚀系统

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产品详情

整机 Footprint:920mmx740mm

8 寸向下兼容

工艺菜单化,支持一键运行

气动旋转开盖,人机界面角度可调

模块化布局,便于升级扩展和维护

标配内衬,工艺稳定性好

精准工艺压力控制

控温样品台,精度+0.1℃℃

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