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PDH150A 桌面型等离子体清洗机
设备特点：◆ 整机尺寸560mm（W）×515mm（D）×430mm（H）◆ 10寸触摸屏操作（进口ELO电容触摸屏）◆ 射频电源功率范围5w~300w◆ 扣手式面板设计，方便维护与升级◆ 工艺性能稳定，片内片间均匀性±5%◆ 菜单化工艺，可支持200条以上工艺菜单&nb
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PCD150A 桌面型等离子体清洗机
设备特点：◆ 整机尺寸520mm（W）×515mm（D）×430mm（H）◆ 10寸触摸屏操作（进口ELO电容触摸屏）◆ 射频电源功率范围5w~300w◆ 扣手式面板设计，方便维护与升级◆ 6寸样品台，工艺性能稳定，片内片间均匀性±5%◆ 菜单化工艺，可支持200条以上
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IBE-150D 离子束刻蚀系统
整机 Footprint:1000mmx750mm考夫曼离子源离子源口径 Ф150mm触摸屏人机交互水冷样品台样品台自转+角度调整(0-90°)支持样品最大外径 150mm工艺菜单化自动运行，支持一键运行
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ICP-200LL 感应耦合反应离子刻蚀系统
整机 Footprint:1350mmx740mm工艺运行带自动控压下电极三针结构，带背氦标配内衬，工艺稳定性好支持托盘结构或8寸裸片Load-Lock 双腔体结构工艺菜单化，自动运行下电极高低温控制，精度+0.1℃℃
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ICP-200E 感应耦合反应离子刻蚀系统
整机 Footprint:970mmx740mm8 寸向下兼容工艺菜单化，支持一键运行气动旋转开盖，人机界面角度可调模块化布局，便于升级扩展和维护标配内衬，工艺稳定性好精准工艺压力控制控温样品台，精度±0.1°℃
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RIE-200H 平板式反应离子刻蚀系统
整机 Footprint:920mmx740mm8 寸向下兼容工艺菜单化，支持一键运行气动旋转开盖，人机界面角度可调模块化布局，便于升级扩展和维护标配内衬，工艺稳定性好精准工艺压力控制控温样品台，精度+0.1℃℃
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RIE-200E 平板式反应离子刻蚀系统
整机 Footprint:880mmx650mm8 寸向下兼容工艺菜单化，支持一键运行气动角度式开盖，人机界面角度可调模块化布局，便于升级扩展和维护标配内衬，工艺稳定性好精准工艺压力控制控温样品台，精度土0.1℃℃
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RIE-200C 平板式反应离子刻蚀系统
机台特点整机 Footprint:920mmx500mm8 寸可向下兼容工艺菜单化，支持一键运行气动开盖，人机界面角度可调模块化布局，便于升级扩展和维护标配内衬，工艺稳定性好自动蝶阀工艺压力控制控温样品台，精度+0.1℃℃
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离子刻蚀机RIE-10NR
RIE-10NR是一种新型的低成本、高性能、全自动反应离子刻蚀系统，能够满足非腐蚀性气体化学最苛刻的工艺要求。计算机化触摸屏为工艺配方编程和存储提供了用户友好的界面。该系统可以实现精确的侧壁轮廓控制和材料之间的高蚀刻选择性。凭借其圆滑、紧凑的设计，RIE-10NR只需要很小的洁净室空间。应用:硅、二氧化硅、氮化硅、多
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